Sintered oxide, sputtering target, and oxide semiconductor thin film obtained using same

WO2015137275 Art A1 17. September 2015

Anmelder: Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015137275
Aktenzeichen: EP15760838
Anmeldetag: 9. März 2015
Veröffentlichung: 17. September 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C04B35/00C23C14/08C23C14/34C23C14/58H01L21/20H01L21/363

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Metal Mining

Sumitomo Metal Mining ist ein japanisches Unternehmen des Sumitomo-Konzerns, das Metalle wie Kupfer, Nickel und Gold fördert und verarbeitet sowie Batteriematerialien herstellt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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