Plasma processing device

WO2015137364 Art A1 17. September 2015

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Design Network Co. Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015137364
Aktenzeichen: EP15761843
Anmeldetag: 10. März 2015
Veröffentlichung: 17. September 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/68H01L21/02H01L21/3065H01L21/677

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Design Network Co. Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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