Mask blank, phase shift mask and method for manufacturing semiconductor device

WO2015141078 Art A1 24. September 2015

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015141078
Aktenzeichen: EP14886333
Anmeldetag: 9. Dezember 2014
Veröffentlichung: 24. September 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32G03F1/58

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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