Reflective photomask blank, reflective photomask, reflective photomask production method, exposure method, and exposure device
WO2015141230
Art A1
24. September 2015
Anmelder: Toppan Printing Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015141230
- Aktenzeichen
- EP15765679
- Anmeldetag
- 19. März 2015
- Veröffentlichung
- 24. September 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/24G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Toppan Printing Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toppan Printing
Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.
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