Radiation-sensitive resin composition, resist pattern formation method, radiation-sensitive acid generator, and compound

WO2015141504 Art A1 24. September 2015

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015141504
Aktenzeichen: EP15765723
Anmeldetag: 6. März 2015
Veröffentlichung: 24. September 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C309/19C07C309/23C07D307/00C07D333/50C09K3/00G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

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