Photosensitive resin composition, cured-relief-pattern production method, and semiconductor device

WO2015141618 Art A1 24. September 2015

Anmelder: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015141618
Aktenzeichen: EP15764474
Anmeldetag: 16. März 2015
Veröffentlichung: 24. September 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027G03F7/004G03F7/031G03F7/075

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Asahi Kasei

Asahi Kasei ist ein japanischer Mischkonzern mit Sitz in Tokio, der in den Bereichen Chemie und Kunststoffe, Wohnungsbau sowie Medizintechnik tätig ist. Das 1922 gegründete Unternehmen zählt zu den größten Chemiekonzernen Japans.

2.558 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von