Low refractive index film and production method therefor

WO2015141718 Art A1 24. September 2015

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015141718
Aktenzeichen: EP15765229
Anmeldetag: 18. März 2015
Veröffentlichung: 24. September 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G02B1/111B32B9/00C09D7/12C09D183/04C09D183/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Mitsubishi Materials Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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