Method for cleaning a process chamber

WO2015144487 Art A1 1. Oktober 2015

Anmelder: IMEC vzw, Tokyo Electron Limited 🇧🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015144487
Aktenzeichen: EP15712298
Anmeldetag: 17. März 2015
Veröffentlichung: 1. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: IMEC vzw
Tokyo Electron Limited
Land: 🇧🇪 Belgien

🇧🇪 imec

Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.

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🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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