High-resolution patterning of multiple layers side by side
WO2015144930
Art A1
1. Oktober 2015
Anmelder: IMEC VZW, FUJI-FILM Corporation 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015144930
- Aktenzeichen
- EP15712640
- Anmeldetag
- 28. März 2015
- Veröffentlichung
- 1. Oktober 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L51/00H01L51/56H01L27/32G03F7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- IMEC VZW
FUJI-FILM Corporation - Land
- 🇧🇪 Belgien
🇧🇪
imec
Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.
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Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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