Catalytic-layer formation method and catalytic-layer formation device

WO2015145876 Art A1 1. Oktober 2015

Anmelder: SCREEN Holdings Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015145876
Aktenzeichen: EP14887511
Anmeldetag: 3. Dezember 2014
Veröffentlichung: 1. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01M4/88H01M4/92H01M4/86H01M8/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SCREEN Holdings Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 SCREEN Holdings

Japanischer Technologiekonzern. SCREEN Holdings stellt Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie her, insbesondere Wafer-Reinigungs- und Beschichtungssysteme, sowie Druck- und Bildverarbeitungstechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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