Substrate for mask blanks, mask blank, transfer mask, and production method for these

WO2015145887 Art A1 1. Oktober 2015

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015145887
Aktenzeichen: EP14887112
Anmeldetag: 9. Dezember 2014
Veröffentlichung: 1. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/60G01B11/30G01N21/956G03F1/84

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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