Heat treatment device
WO2015145974
Art A1
1. Oktober 2015
Anmelder: Tokyo Electron Limited, Suzuki Industry Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015145974
- Aktenzeichen
- EP15770118
- Anmeldetag
- 26. Februar 2015
- Veröffentlichung
- 1. Oktober 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/31C23C16/46H01L21/22H01L21/324H01L21/677H05B6/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Tokyo Electron Limited
Suzuki Industry Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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