Phase defect evaluation method for euv mask, method for manufacturing euv mask, euv mask blank, and euv mask

WO2015146140 Art A1 1. Oktober 2015

Anmelder: Toppan Printing Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015146140
Aktenzeichen: EP15768157
Anmeldetag: 23. März 2015
Veröffentlichung: 1. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/24G03F1/84

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Toppan Printing Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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