Formation method and formation device, for patterned film having uniform film thickness and rectangular cross-section

WO2015146260 Art A1 1. Oktober 2015

Anmelder: National Institute Of Advanced Industrial Science 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015146260
Aktenzeichen: EP15768841
Anmeldetag: 23. Januar 2015
Veröffentlichung: 1. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: B41M1/02B41F3/20H05K3/12H05K3/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National Institute Of Advanced Industrial Science
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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