Mask blank, phase-shift-mask production method, phase shift mask, and semiconductor-device production method

WO2015146422 Art A1 1. Oktober 2015

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015146422
Aktenzeichen: EP15768734
Anmeldetag: 24. Februar 2015
Veröffentlichung: 1. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/30C23C14/06G03F1/58G03F1/80H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von