Tantalum sputtering target and production method therefor

WO2015146516 Art A1 1. Oktober 2015

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015146516
Aktenzeichen: EP15769677
Anmeldetag: 4. März 2015
Veröffentlichung: 1. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B21B3/00B22D21/06B22D27/02H01L21/285

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von