Photosensitive resin composition, cured film, method for producing cured film, and semiconductor device
WO2015146949
Art A1
1. Oktober 2015
Anmelder: FUJI-FILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015146949
- Aktenzeichen
- EP15768499
- Anmeldetag
- 24. März 2015
- Veröffentlichung
- 1. Oktober 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/029G03F7/004G03F7/027G03F7/031G03F7/037
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJI-FILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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