Film forming method, semiconductor device manufacturing method, and semiconductor device

WO2015151733 Art A1 8. Oktober 2015

Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015151733
Aktenzeichen: EP15772885
Anmeldetag: 9. März 2015
Veröffentlichung: 8. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3205H01L21/28H01L21/283H01L21/314H01L21/768H01L23/522H01L23/532

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Zeon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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