Method for manufacturing actinic light sensitive or radiation sensitive resin compostion, and actinic light sensitive or radiation sensitive resin compostion
WO2015151765
Art A1
8. Oktober 2015
Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015151765
- Aktenzeichen
- EP15774361
- Anmeldetag
- 13. März 2015
- Veröffentlichung
- 8. Oktober 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/26G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fujifilm Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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