Composition for resist underlayer film formation containing novolak resin into which aromatic vinyl compound was incorporated through addition

WO2015151803 Art A1 8. Oktober 2015

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015151803
Aktenzeichen: EP15773658
Anmeldetag: 17. März 2015
Veröffentlichung: 8. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G14/02G03F7/26H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von