Copper Or Copper Alloy Sputtering Target

WO2015151901 Art A1 8. Oktober 2015

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015151901
Aktenzeichen: EP15774066
Anmeldetag: 23. März 2015
Veröffentlichung: 8. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34H01L21/28H01L21/285H01L21/3205H01L21/321H01L21/768H01L23/532C22C9/01C22C9/05C22F1/00C22F1/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

1.069 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von