Hole formation method and measurement device

WO2015152003 Art A1 8. Oktober 2015

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015152003
Aktenzeichen: EP15772415
Anmeldetag: 26. März 2015
Veröffentlichung: 8. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G01N27/00B82Y40/00G01N21/64G01N21/65

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von