Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2015152123 Art A1 8. Oktober 2015

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015152123
Aktenzeichen: EP15773070
Anmeldetag: 30. März 2015
Veröffentlichung: 8. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32G03F1/48G03F1/80

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von