Coating method for preventing bending phenomenon of substrate

WO2015152617 Art A1 8. Oktober 2015

Anmelder: Dongjin Semichem Co., Ltd 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2015152617
Aktenzeichen
EP15773217
Anmeldetag
31. März 2015
Veröffentlichung
8. Oktober 2015
Rechtsraum
WO
IPC
C09D183/04B05D7/24B05D7/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Dongjin Semichem Co., Ltd
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Dongjin Semichem

Der Anmelder ist ein südkoreanischer Hersteller von Chemikalien für die Halbleiter- und Displayindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Klebstoffe, Optik und Kunststofftechnik, insbesondere Fotoresists und Materialien für Dünnschichtprozesse. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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