Coating method for preventing bending phenomenon of substrate
WO2015152617
Art A1
8. Oktober 2015
Anmelder: Dongjin Semichem Co., Ltd 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015152617
- Aktenzeichen
- EP15773217
- Anmeldetag
- 31. März 2015
- Veröffentlichung
- 8. Oktober 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09D183/04B05D7/24B05D7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Dongjin Semichem Co., Ltd
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Dongjin Semichem
Der Anmelder ist ein südkoreanischer Hersteller von Chemikalien für die Halbleiter- und Displayindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Klebstoffe, Optik und Kunststofftechnik, insbesondere Fotoresists und Materialien für Dünnschichtprozesse. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.
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