Mirror arrangement, projection lens and euv lithography apparatus

WO2015155061 Art A1 15. Oktober 2015

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015155061
Aktenzeichen: EP15712942
Anmeldetag: 31. März 2015
Veröffentlichung: 15. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B27/00B82Y10/00G02B7/18G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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