Plasma processing device and plasma processing method

WO2015155923 Art A1 15. Oktober 2015

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015155923
Aktenzeichen: EP15777238
Anmeldetag: 26. Februar 2015
Veröffentlichung: 15. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/31H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von