Mask blank, phase shift mask, and phase-shift mask manufacturing method
WO2015156016
Art A1
15. Oktober 2015
Anmelder: Dai Nippon Printing Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015156016
- Aktenzeichen
- EP15776115
- Anmeldetag
- 29. Januar 2015
- Veröffentlichung
- 15. Oktober 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Dai Nippon Printing Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Dai Nippon Printing
Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.
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