Photosensitive resin composition, photosensitive element, and method for manufacturing processed glass substrate

WO2015156292 Art A1 15. Oktober 2015

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015156292
Aktenzeichen: EP15777462
Anmeldetag: 7. April 2015
Veröffentlichung: 15. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027C03C15/00G03F7/004G03F7/075G03F7/40G03F7/42H01L51/50H05B33/02H05B33/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von