Selective atomic layer deposition process utilizing patterned self assembled monolayers for 3d structure semiconductor applications

WO2015156912 Art A1 15. Oktober 2015

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015156912
Aktenzeichen: EP15776917
Anmeldetag: 23. Februar 2015
Veröffentlichung: 15. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/336H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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