Method for cleaning langasite wafer

WO2015157957 Art A1 22. Oktober 2015

Anmelder: Institute Of Microelectronics, Chinese Academy Of Sciences 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015157957
Aktenzeichen: EP14889520
Anmeldetag: 17. April 2014
Veröffentlichung: 22. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: B08B3/12C30B29/34C30B33/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Institute Of Microelectronics, Chinese Academy Of Sciences
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences

Chinesisches Forschungsinstitut der Chinese Academy of Sciences mit Schwerpunkt auf Mikroelektronik und Halbleitertechnologie. Patente betreffen Chipdesign und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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