Method for cleaning silicon crystal and method for fracturing polycrystalline silicon chunk

WO2015159537 Art A1 22. Oktober 2015

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015159537
Aktenzeichen: EP15779442
Anmeldetag: 14. April 2015
Veröffentlichung: 22. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C01B33/02B08B3/04

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

4.655 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von