Defect observation method and device

WO2015159641 Art A1 22. Oktober 2015

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2015159641
Aktenzeichen
EP15780386
Anmeldetag
19. März 2015
Veröffentlichung
22. Oktober 2015
Rechtsraum
WO
IPC
G01N21/956G01B11/30
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Hitachi High-Technologies Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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