Dust collection tool, substrate processing device and particle collection method

WO2015159849 Art A1 22. Oktober 2015

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015159849
Aktenzeichen: EP15780200
Anmeldetag: 13. April 2015
Veröffentlichung: 22. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/677B01D41/04B01D46/12B01D46/42B03C3/011B03C3/019B03C3/155B03C3/28H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von