Sintered oxide, sputtering target, and oxide semiconductor thin film obtained using same
WO2015159916
Art A1
22. Oktober 2015
Anmelder: Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015159916
- Aktenzeichen
- EP15779455
- Anmeldetag
- 15. April 2015
- Veröffentlichung
- 22. Oktober 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C04B35/00C23C14/08C23C14/34H01L21/363
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sumitomo Metal Mining
Sumitomo Metal Mining ist ein japanisches Unternehmen des Sumitomo-Konzerns, das Metalle wie Kupfer, Nickel und Gold fördert und verarbeitet sowie Batteriematerialien herstellt.
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