Cmp polishing pad with columnar structure and methods related thereto

WO2015161210 Art A1 22. Oktober 2015

Anmelder: Cabot Microelectronics Corporation, Prasad, Abaneshwar 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2015161210
Aktenzeichen
EP15779175
Anmeldetag
17. April 2015
Veröffentlichung
22. Oktober 2015
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Cabot Microelectronics Corporation
Prasad, Abaneshwar
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cabot Microelectronics

Cabot Microelectronics war ein US-amerikanischer Hersteller von Polierchemikalien für die Halbleiterfertigung und ist heute Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben, Klebstoffe und Brennstoffe sowie Halbleiterbauelemente, mit Bezug zur Werkzeug- und Fertigungstechnik. Die Anmeldungen bis 2019 betreffen unter anderem CMP-Zusammensetzungen für die Chip-Planarisierung.

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