A lithographic apparatus, radiation source, and lithographic system

WO2015161934 Art A1 29. Oktober 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015161934
Aktenzeichen: EP15703048
Anmeldetag: 2. Februar 2015
Veröffentlichung: 29. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von