Compact two-sided reticle inspection system

WO2015161949 Art A1 29. Oktober 2015

Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015161949
Aktenzeichen: EP15708496
Anmeldetag: 5. März 2015
Veröffentlichung: 29. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Holding N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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