Charged particle beam apparatus, and static removal method for same

WO2015163036 Art A1 29. Oktober 2015

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015163036
Aktenzeichen: EP15782443
Anmeldetag: 16. März 2015
Veröffentlichung: 29. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/20H01J37/22H01J37/28H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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