Resist underlayer film forming composition and method for forming resist pattern in which same is used

WO2015163195 Art A1 29. Oktober 2015

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015163195
Aktenzeichen: EP15783727
Anmeldetag: 14. April 2015
Veröffentlichung: 29. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

2.124 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von