Method for polishing silicon carbide substrate

WO2015163256 Art A1 29. Oktober 2015

Anmelder: Fujimi Incorporated, Denso Corporation, Showa Denko K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015163256
Aktenzeichen: EP15782440
Anmeldetag: 17. April 2015
Veröffentlichung: 29. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304B24B37/00B24B37/12C25F3/30

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Fujimi Incorporated
Denso Corporation
Showa Denko K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Denso

Japanischer Automobilzulieferer mit Sitz in Kariya (Präfektur Aichi). Denso entwickelt Antriebs, Klima, Sicherheits und Elektroniksysteme für Fahrzeuge sowie Komponenten für Elektromobilität, Fahrerassistenz und Halbleitertechnik.

7.883 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

2.327 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von