Method for polishing silicon carbide substrate
Anmelder: Fujimi Incorporated, Denso Corporation, Showa Denko K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015163256
- Aktenzeichen
- EP15782440
- Anmeldetag
- 17. April 2015
- Veröffentlichung
- 29. Oktober 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304B24B37/00B24B37/12C25F3/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Fujimi Incorporated
Denso Corporation
Showa Denko K.K. - Land
- 🇯🇵 Japan
Fujimi ist ein japanischer Hersteller von Poliermitteln, vor allem für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben und Klebstoffe sowie Halbleiterbauelemente und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.
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