Method for polishing silicon carbide substrate

WO2015163256 Art A1 29. Oktober 2015

Anmelder: Fujimi Incorporated, Denso Corporation, Showa Denko K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2015163256
Aktenzeichen
EP15782440
Anmeldetag
17. April 2015
Veröffentlichung
29. Oktober 2015
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304B24B37/00B24B37/12C25F3/30
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Fujimi Incorporated
Denso Corporation
Showa Denko K.K.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Fujimi

Fujimi ist ein japanischer Hersteller von Poliermitteln, vor allem für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben und Klebstoffe sowie Halbleiterbauelemente und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

511 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Denso

Japanischer Automobilzulieferer mit Sitz in Kariya (Präfektur Aichi). Denso entwickelt Antriebs, Klima, Sicherheits und Elektroniksysteme für Fahrzeuge sowie Komponenten für Elektromobilität, Fahrerassistenz und Halbleitertechnik.

13.252 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

3.077 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen