Photosensitive element, laminate, permanent mask resist, method for producing same, and method for producing semiconductor package

WO2015163455 Art A1 29. Oktober 2015

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015163455
Aktenzeichen: EP15782992
Anmeldetag: 24. April 2015
Veröffentlichung: 29. Oktober 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/09B32B7/02B32B27/38G03F7/004G03F7/027G03F7/029H05K3/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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