Cleaning apparatus and associated low pressure chamber apparatus

WO2015165705 Art A1 5. November 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015165705
Aktenzeichen: EP15713930
Anmeldetag: 9. April 2015
Veröffentlichung: 5. November 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20C23C16/44C23C16/452

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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