Etch rate enhancement for a silicon etch process through etch chamber pretreatment

WO2015166368 Art A1 5. November 2015

Anmelder: International Business Machines Corporation, Zeon Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015166368
Aktenzeichen: EP15785818
Anmeldetag: 15. April 2015
Veröffentlichung: 5. November 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: International Business Machines Corporation
Zeon Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

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🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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