Sputtering target and process for production thereof

WO2015166795 Art A1 5. November 2015

Anmelder: Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K., Tohoku University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015166795
Aktenzeichen: EP15786761
Anmeldetag: 14. April 2015
Veröffentlichung: 5. November 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22F3/14C04B35/00C22C1/05C22C5/04C22C19/07C23C14/14

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K.
Tohoku University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tanaka Kikinzoku Kogyo

Tanaka Kikinzoku Kogyo ist ein japanisches Unternehmen für Edelmetallverarbeitung mit Sitz in Tokio. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt um Fertigungs- und Verfahrenstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2023 ab.

430 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

2.159 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von