Pattern drawing device, pattern drawing method, device manufacturing method, laser light source device, beam scanning device, and beam scanning method

WO2015166910 Art A1 5. November 2015

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2015166910
Aktenzeichen
EP15785739
Anmeldetag
27. April 2015
Veröffentlichung
5. November 2015
Rechtsraum
WO
IPC
G02B26/12G02B26/10G02F1/03G02F1/11G02F1/37G03F7/20G03F7/24
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Nikon Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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