Pattern drawing device, pattern drawing method, device manufacturing method, laser light source device, beam scanning device, and beam scanning method
WO2015166910
Art A1
5. November 2015
Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015166910
- Aktenzeichen
- EP15785739
- Anmeldetag
- 27. April 2015
- Veröffentlichung
- 5. November 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B26/12G02B26/10G02F1/03G02F1/11G02F1/37G03F7/20G03F7/24
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nikon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
3.320 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.