Diamond-based monitoring apparatus for lithographic apparatus, and a lithographic apparatus comprising diamond-based monitoring apparatus

WO2015169581 Art A1 12. November 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015169581
Aktenzeichen: EP15716837
Anmeldetag: 21. April 2015
Veröffentlichung: 12. November 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G01J1/42G01J1/58G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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