Vorrichtung und Verfahren zum Versorgen einer Cvd- oder Pvd-Beschichtungseinrichtung mit einem Prozessgasgemisch

WO2015169882 Art A1 12. November 2015

Anmelder: AIXTRON SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015169882
Aktenzeichen: EP15723871
Anmeldetag: 7. Mai 2015
Veröffentlichung: 12. November 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455B01F3/02B01F5/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: AIXTRON SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von