Sample processing method and charged particle beam device

WO2015170397 Art A1 12. November 2015

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015170397
Aktenzeichen: EP14891327
Anmeldetag: 9. Mai 2014
Veröffentlichung: 12. November 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/317H01J37/244H01J37/26H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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