Positive-type photosensitive adhesive agent composition, adhesive agent pattern, semiconductor wafer with adhesive agent layer, semiconductor device and method for producing same

WO2015170432 Art A1 12. November 2015

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2015170432
Aktenzeichen
EP14891439
Anmeldetag
26. Dezember 2014
Veröffentlichung
12. November 2015
Rechtsraum
WO
IPC
C09J201/00C09J11/06G03F7/004G03F7/023H01L21/52H01L21/60H01L25/065H01L25/07H01L25/18
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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