Barrier layer stack, method for manufacturing a barrier layer stack, and ultra-high barrier layer and antireflection system
WO2015172847
Art A1
19. November 2015
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015172847
- Aktenzeichen
- EP14724467
- Anmeldetag
- 16. Mai 2014
- Veröffentlichung
- 19. November 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L51/52
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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